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光掩膜最新资讯,投资界全方位播报光掩膜相关话题,全面解读光掩膜投资、融资、并购等动态。
下一代EUV光刻机
当前大芯片十分火热,但却由于尺寸太大无法适应高 NA 曝光工具的 ½ 场。为了能够继续生产具有相似尺寸的芯片,需要采用拼接。换句话说,就是一部分芯片使用一个掩膜进行图案转印,而其余部分通过第二个掩膜曝...
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半导体行业观察
2022-05-30 13:00
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